Патентование изобретений в области высоких и нанотехнологий

Литература

1. Браун Н., Караламбоус П., Кудряшов В.А. Высоковольтная электроннолучевая нанолитография. Третий всесоюзный семинар. «Микролитография». – Черноголовка, 1990, с. 31.

2. Аристов В. В., Кислов Н.А., Николайчик В. И., Ход ос И. И. Нанолитография в РПЭМ. Третий всесоюзный семинар. «Микролитография». – Черноголовка, 1990, с. 35–36.

3. Патент US5122663. Compact integrated electron beam imaging system. 24.07.1991.

4. Заявка RU2004136940. Поликаналльный объектный столик для исследования микроорганизмов с помощью сканирующего электронного микроскопа JEOL JSM-35C.27.05.2006.

5. Патент RU2297947. Способ изготовления полупроводникового прибора с управляющим электродом нанометровой длины.22.05.2003.

6. Heuberger A., Betz Н. X-ray lithography using synchrotron radiation // SPIE. 1984. vol. 471. p. 221–230.

7. Заявка JP59-33742. Источник рентгеновского излучения. 28.09.82.

8. Заявка JP59-128747. Газоплазменный источник рентгеновского излучения.12.01.83.

9. Заявка JP60-22093. Рентгеношаблон. 05.11.85.

10. Заявка JP59-92531. Рентгеношаблон. 17.11.82

11. Патент US4513077. Electron beam or X-ray reactive imagel-formable resisnous composition. 13.06.83.

12. Нонотаки С. Электронные резисты и рентгенорезисты. – Денси дзеире, 1984, т. 23, № 8, с. 57–61.

13. А.С. СССР № 1354978. Система реперных знаков и способ совмещения рисунка шаблона с рисунком пластины. 06.03.1986.

14. А.С. СССР № 1385843. Система реперных знаков для совмещения шаблона с пластиной, способ совмещения шаблона с пластиной и устройство для совмещения шаблона с пластиной. 18.01.1986.

15. А.С. СССР № 1403839. Устройство для совмещения шаблона и подложки. 06.03.1986.

16. А.С. СССР № 1385843. Система реперных знаков для совмещения шаблона с пластиной, способ совмещения шаблона с пластиной и устройство для совмещения шаблона с пластиной. 18.01.1986.

17. Лаймен Д. Работы по созданию установки рентгеновской литографии. – Электроника, 1986, т. 59, № 6, с. 45–52.

18. Патент US5150392. X-ray mask conteining a cantivelevered tip for gap control and aligment. 09.09.1991.

19. Патент US5508527. Method of detecting positional displacement between mask and wafer,and exposure apparatus adopting the method. 09.01.1994.

20. Полнопольная рентгенолитографическая установка MX-15.– Дэнси дзеире, 1986, т. 58, № 25, с. 77–81.

21. Заявка JP60-208828. Установка для рентгеновского экспонирования. 02.04.1984.

22. А.С. СССР № 1578457. Интерферометр для измерения линейных перемещений. 08.01.1988.

23. А.С. СССР № 1578458. Интерферометр для измерения линейных перемещений. 08.01.1988.

24. АС. СССР № 1550457. Модулятор света. 08.01.1988.

25. АС. СССР № 1823045. Разъем. 06.02.1991.

26. Егоров В.К., Егоров Е.В. Явление радиационной сверхтекучести и его применение в сфере высоких технологий. – Высокие технологии, 2005, № 4 (24), с. 7–11.